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产品与应用

Universal-300,1744.cc,澳门新葡京所在

Universal-300

Universal-300是我国尾台进入大生产线的12”CMP设备,该机型技术含量下、性能稳定,适用于集成电路制造、晶圆基片消耗、CMP研磨原料研发和相关的科学研究。
 
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Universal-300,1744.cc设备下风:
1.应用齐自动化“干进干出”情势;
2.模块化抛光单元坐同假想;,
3.各个模块具有独立的控制系统;
4.抛光工艺参数数据实时采集和存储;
5.多种出发点控制系统。



Universal-300-B
 Universal-300-B是一个独立把握的12”自动CMP抛光单元系统。它因袭了Universal-300机型的成熟技术和服从,具有奇异的下风:,澳门新葡京所在
 ·应用自动化“干进湿出”体式格式;
 ·12英寸模块化抛光单元坐同假想;
 ·可兼容4”、6”、8”、12”wafer,适用范围广;
 ·可集成多种出发点检测,实现精准工艺把握;
 ·抛光工艺参数数据实时采集和存储;,葡京娱乐城百家乐
 ·适用于科研院所、实验室、原料研发机构。

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