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Universal-300系列CMP设备

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Universal-300

Universal-300是一款自主研发、可用于集成电路制造等领域、可兼容8″和12″晶圆化学机械抛光的CMP系统。该机型技术含量下、性能稳定,是我国尾台进入大生产线的12”CMP设备,符号着我国集成电路制造CMP设备已劈头组成产业化发展态势。

 
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Universal-300,葡京导航设备下风:
      1.应用齐自动化“干进干出”情势;
      2.模块化抛光单元坐同假想;
      3.各个模块具有独立的控制系统;,新葡京娱乐城公司
      4.抛光工艺参数数据实时采集和存储;
      5.多种出发点控制系统。



Universal-300-B
 Universal-300-B是一个独立把握的12”自动CMP抛光单元系统。它因袭了Universal-300机型的成熟技术和服从,具有奇异的下风:
     ·应用自动化“干进湿出”体式格式;
     ·12英寸模块化抛光单元坐同假想;
     ·可兼容4”、6”、8”、12”wafer,适用范围广;
     ·可集成多种出发点检测,实现精准工艺把握;
     ·抛光工艺参数数据实时采集和存储;
     ·适用于科研院所、实验室、原料研发机构。,

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